晶圓制造中的電子級氨水

老虎說芯|Tiger Chip|

2025-07-29 20:15:24 571

一、什么是電子級氨水？

電子級氨水，本質上是高度純化的氫氧化銨溶液（NH?OH），也叫超高純氨水，是一種呈強堿性的透明液體。它由氨氣（NH?）和超純水按一定比例溶解混合而成。與普通工業氨水最大的區別在于其超高純度、極低金屬離子雜質和有機殘留，專門應用于半導體、顯示面板、光伏等高科技領域。

二、電子級氨水的作用與應用場景

電子級氨水的作用不是“單一清潔劑”，它在多個關鍵工藝中都承擔了核心功能：

? 1. 晶圓清洗（主要作用）

在集成電路制造中，晶圓表面在每一道工序后都需要極為徹底的清洗，以去除粒子、金屬離子、有機殘留、微粒等污染物。

電子級氨水通常和雙氧水（H?O?）、**超純水（UPW）混合，形成SC-1（標準清洗液）**配方：

SC-1 = NH?OH + H?O? + H?O

用途：

去除無機顆粒、金屬離子等
在不傷害晶圓表面的情況下“剝離”污染

? 2. 蝕刻工藝

氨水具有一定的化學活性，可參與對部分金屬氧化物的選擇性刻蝕，尤其是在清洗后的微刻蝕階段發揮輔助作用。

? 3. 顯示面板、光伏制造中的表面處理

電子級氨水也被廣泛應用于TFT-LCD、OLED面板制程，以及硅片光伏制造的清洗與表面改性。

三、為什么電子級氨水門檻高？

?? 1. 超高純度要求（重點）

在IC制造中，哪怕1 ppb（十億分之一）級的金屬雜質都可能影響器件性能或可靠性。因此，電子級氨水必須滿足：

雜質金屬離子（Fe、Na、K、Ca、Cu等） ≤ ppt ~ ppb級
有機碳（TOC） ≤ 50 ppb
微粒數密度 D50 ≤ 0.1 μm，< 數百個/ml
電導率、電阻率控制精密（通常在18MΩ·cm左右）

?? 2. 配制和儲存過程必須潔凈

設備需為無金屬離子污染材質
制程環境要求達到Class 100或更高潔凈等級
運輸必須采用專用內襯包裝，避免二次污染

四、市場需求與行業現狀

?? 市場規模

電子級氨水是濕電子化學品中的大宗產品
2022年全球需求超 30萬噸
用量最大領域：NAND Flash、DRAM、邏輯芯片
年復合增長率約 5~7%

?? 國內外對比

	海外*企業	國內企業
技術水平	三菱化學、住友化學、巴斯夫（可量產G5級）	聯仕電子、江化微、晶瑞電材、恒申集團等（主流G2~G3級）
產品純度	高，適配先進制程（5nm/3nm）	中等偏上，部分產品接近G4
市占率	高端占據主導	中低端國產替代加快

五、技術等級與摩爾定律的關系

在先進制程中（如7nm以下），芯片結構更精細、工藝更復雜，清洗要求也隨之提升。以G等級劃分純度：

等級	純度/雜質控制能力	應用節點
G2/G3	主流國產，適配28nm~65nm制程	中低端邏輯/模擬電路
G4/G5	進口主流，適配7nm~14nm	高端CPU、GPU等

為了支撐摩爾定律下線寬縮小，濕電子化學品的純度需要“再上一個量級”。

六、客戶驗證流程（驗證周期長，門檻高）

電子級氨水的供應不是“供貨即用”，必須通過嚴苛的客戶驗證流程，確保其與客戶工藝完全匹配：

客戶表達驗證意向，初步報價
提供檢測報告（COA）與樣品，客戶進行初測
客戶內部立項，制定驗證計劃
啟動線上驗證，一般需多輪送樣
客戶派人到供應商現場稽核（質量/潔凈/管理體系）
不合項關閉，客戶發出通過通知
商務談判、議價、建立正式供應鏈關系

? 整個驗證周期長達 6-18個月，尤其是國際IDM大廠對供應商要求極為嚴苛。

七、工藝核心：物理純化 + 混配工藝

?? 物理純化方式主要包括：

多級反滲透（RO）
脫氣、脫CO?
超濾（Ultrafiltration）
離子交換（IX）
蒸餾（高精度分離）

這些工藝結合使用，才能制得符合電子級標準的氨水。

八、運輸半徑短的重要性

由于氨水屬于腐蝕性強堿且純度極高，其在存儲和運輸過程中容易吸收雜質和CO?：

產品穩定性差，有效期短（通常1~3個月）
強腐蝕性，運輸需特殊包裝與車輛
就近供貨可降低運輸成本、減少品質波動

這就是為何很多電子化學品廠商會在芯片制造廠附近設立“工廠型供應點”或化學品配送中心。

九、總結

電子級氨水是半導體行業中不可替代的基礎清洗化學品，它的質量和純度直接影響芯片的良率和可靠性。面對先進制程的技術需求，電子級氨水的升級不僅是材料企業的挑戰，也是國產半導體產業鏈自主可控的關鍵一環。

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